Daftar Isi:
- Definisi - Apa yang dimaksud dengan Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL)?
- Techopedia menjelaskan Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL)
Definisi - Apa yang dimaksud dengan Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL)?
Extreme ultraviolet lithography (EUVL) adalah teknik litografi canggih dan sangat presisi yang memungkinkan pembuatan microchip dengan fitur yang cukup kecil untuk mendukung kecepatan clock 10 Ghz.
EUVL menggunakan gas xenon super-charge, yang memancarkan sinar ultraviolet dan menggunakan cermin mikro yang sangat presisi untuk memfokuskan cahaya ke wafer silikon untuk menghasilkan lebar fitur yang lebih halus.
Techopedia menjelaskan Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL)
Sebaliknya, teknologi EUVL menggunakan sumber cahaya ultraviolet dan lensa untuk memfokuskan cahaya. Ini tidak tepat karena keterbatasan lensa.
Proses EUVL adalah sebagai berikut:
- Laser diarahkan pada gas xenon, yang memanaskannya untuk membuat plasma.
- Plasma memancarkan cahaya pada 13 nanometer.
- Lampu dikumpulkan di kondensor dan kemudian diarahkan ke topeng yang berisi tata letak papan sirkuit. Topeng sebenarnya hanya representasi pola dari satu lapisan chip. Ini dibuat dengan menerapkan penyerap ke beberapa bagian cermin tetapi tidak ke bagian lain, menciptakan pola sirkuit.
- Pola topeng dipantulkan ke serangkaian empat hingga enam cermin, yang semakin kecil untuk mengecilkan ukuran gambar sebelum difokuskan ke silikon wafer. Cermin sedikit membengkokkan cahaya untuk membentuk gambar, seperti bagaimana set lensa kamera bekerja untuk membelokkan cahaya dan menempatkan gambar pada film.
